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電気専門用語集（WEB版）

用語集No.：　25 用語番号 6.2.4 用語 プラズマデポジション 読み ぷらずまでぽじしょん 英語 plasma deposition 定義 プラズマにより生じたイオン、ラジカル（活性種）、あるいはターゲット材にイオンが衝突してスパッタされた原子を、固体基板表面に堆積させて薄膜を生成すること。イオンの運動量等の物理的現象を利用したプラズマPVD、プラズマ内における分子気体の分解等の化学反応を利用するプラズマCVDがある。 備考 プラズマPVD（plasma-physical vapor deposition）には、スパッタされた原子を堆積させるスパッタデポジション、蒸発させた原子をプラズマ中でイオン化し、基板向けて加速するイオンプレーティングがある。プラズマCVD（plasma-chemical vapor deposition）では希ガスプラズマ中に、所定の原子を含む分子気体を加え、熱分解や反応により原子や分子薄膜を形成する。

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