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電気専門用語集（WEB版）

用語集No.：　25 用語番号 6.2.1 用語 プラズマエッチング 読み ぷらずまえっちんぐ 英語 plasma etching 定義 プラズマで作られたイオンやラジカルを用いて、固体表面をサブミクロンの寸法で微細加工するプロセス。固体原子がラジカルと化学反応し除去される化学的エッチング（chemical etching）、加速されたイオンが衝突し表面の原子がスパッタされる物理的エッチング（physical etching）、ラジカルとイオンの両方が作用する反応性イオンエッチング（reactive ion etching）がある。 備考 化学的エッチングでは材料がすべての方向に等速度で削られるので等方性エッチングと呼ばれる。イオンによるスパッタで行うエッチングは、イオンの入射方向に削られてゆくので方向性が強い。反応性イオンエッチングでは方向により除去速度が異なるので異方性がある。

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